MAIN FACTORS FOR OBTAINING GOOD SHAPE MEMORY PROPERTIES IN SPUTTER-DEPOSITED THIN FILMS OF Ti-Ni BASED ALLOYS
(Ti-Ni基合金スパッター薄膜の形状記憶特性を向上させるための主要因子 )
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2022-11-15 00:39:50 +0900更新時刻: 2022-11-15 00:39:50 +0900