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MAIN FACTORS FOR OBTAINING GOOD SHAPE MEMORY PROPERTIES IN SPUTTER-DEPOSITED THIN FILMS OF Ti-Ni BASED ALLOYS
(Ti-Ni基合金スパッター薄膜の形状記憶特性を向上させるための主要因子 )

梶原節夫, 山崎光太郎, OGAWA, Kazuyuki, 菊池武丕児, 宮崎修一, 梶原節夫, 山崎光太郎, 菊池武丕児, 宮崎修一.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2022-11-15 00:39:50 +0900更新時刻: 2022-11-15 00:39:50 +0900

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