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Si surface passivation by using triode-type plasma-enhanced chemical vapor deposition with thermally energized film-precursors

Chisato Niikura, Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima.

NIMS著者


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    作成時刻: 2020-04-04 03:01:06 +0900更新時刻: 2024-07-05 06:12:34 +0900

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