HOME > 論文 > 書誌詳細電子照射によるシリコンの表面応力の緩和(Surface stress relaxation induced by electron iradiation)成島哲也, 北島 正弘, 板倉 明子, 河辺隆也, 成島哲也, 河辺隆也. 表面科学 . .NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-11-15 00:39:45 +0900 更新時刻: 2022-11-15 00:39:45 +0900