Microstructure and high critical current density of in situ processed MgB2 tapes made by WSi2 and ZrSi2 doping
(WSi2とZrSi2添加MgB2線材の組織と高臨界電流密度)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 11:58:25 +0900 更新時刻: 2026-09-28 04:33:44 +0900