HOME > Article > DetailV3Ga超伝導線材における高濃度Ga化合物を用いた新プロセスの開発(Development of newly PIT process using high Ga content compound in V3Ga superconducting wire)菱沼 良光, 菊池 章弘, 飯嶋 安男, 村上 聡, 川畑 常眞, 松田 健二, 谷口 博康, 竹内 孝夫. 低温工学 47 [8] 495-502. 2012.https://doi.org/10.2221/jcsj.47.495 NIMS author(s)KIKUCHI, AkihiroIIJIMA, YasuoTAKEUCHI, TakaoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2016-05-24 16:47:23 +0900Updated at: 2024-04-02 06:38:49 +0900