HOME > 論文 > 書誌詳細Formation of hydrogen-boron complexes in boron-doped silicon treated with a high concentration of hydrogen atoms(高濃度水素原子処理によって形成されたボロンドープシリコン中の水素-ボロン複合体の形成)N. Fukata, S. Fukuda, S. Sato, K. Ishioka, M. Kitajima, T. Hishita, K. Murakami. Physical Review B 72 [24] 245209. 2005.https://doi.org/10.1103/physrevb.72.245209 NIMS著者深田 直樹石岡 邦江Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 14:54:53 +0900更新時刻: 2024-03-29 23:51:51 +0900