Si基板上の高温ZnS薄膜の成長と熱酸化によるZnOへの構造変化

Y.Z Yoo; Osaka Y; 福村知昭; Jin Zhengwu; 川崎雅司; 鯉沼秀臣; 知京豊裕; Ahmet Parhat; 瀬戸口敦子; 秩父重英; Y.Z Yoo; Osaka Y; 福村知昭; Jin Zhengwu; 川崎雅司; 鯉沼秀臣; 知京豊裕; Ahmet Parhat; 瀬戸口敦子; 秩父重英; Y.-Z. Yoo; Y. Osaka; T. Fukumura; Zhengwu Jin; M. Kawasaki; H. Koinuma; P. Ahmet; A. Setoguchi; S. F. Chichibu

doi:10.1063/1.1344572

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High temperature growth of ZnS films on bara Si and transformation of ZnS to ZnO by thermal oxidation
(Si基板上の高温ZnS薄膜の成長と熱酸化によるZnOへの構造変化)

Y.Z Yoo, Osaka Y, 福村知昭, Jin Zhengwu, 川崎雅司, 鯉沼秀臣, CHIKYO, Toyohiro, Ahmet Parhat, 瀬戸口敦子, 秩父重英, Y.-Z. Yoo, Y. Osaka, T. Fukumura, Zhengwu Jin, M. Kawasaki, H. Koinuma, P. Ahmet, A. Setoguchi, S. F. Chichibu.

Applied Physics Letters 78 [5] 616-618. 2001.

https://doi.org/10.1063/1.1344572

NIMS著者

知京豊裕

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2016-05-24 11:43:12 +0900更新時刻: 2024-04-30 04:40:51 +0900

High temperature growth of ZnS films on bara Si and transformation of ZnS to ZnO by thermal oxidation(Si基板上の高温ZnS薄膜の成長と熱酸化によるZnOへの構造変化)

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

High temperature growth of ZnS films on bara Si and transformation of ZnS to ZnO by thermal oxidation
(Si基板上の高温ZnS薄膜の成長と熱酸化によるZnOへの構造変化)