HOME > 論文 > 書誌詳細Dose-rate dependent implantation of negative copper Ion Implantation into silica glasses and effects on colloid formation(照射線量率に依存するシリカガラスへの負Cuイオン注入及び金属微粒子形成への影響)KISHIMOTO, Naoki, V.T.Gritsyna, TAKEDA, Yoshihiko, 李致圭, 斎藤鉄哉. Nucl. Instrum.& Methods in Phys.Res. Section B 299-303. 1998.NIMS著者岸本 直樹武田 良彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-11-15 00:39:16 +0900更新時刻: 2022-11-15 00:39:16 +0900