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Atomic Scale Flattening of Organosilane Self-Assembled Monolayer and Patterned Tin Hydroxide Thin Films

Naoto Shirahata, Yoshitake Masuda, Tetsu Yonezawa, Kunihito Koumoto.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2016-05-24 14:35:49 +0900 更新時刻: 2026-10-03 06:16:51 +0900

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