Deposition of carbon films by plasma based ion implantation using glow discharge plasma ignited by high voltage pulses applied t
(基板にかけられた高電圧パルスにより発生するグロー放電プラズマを用いたプラズマイオン注入による炭素膜の堆積)
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Created at: 2016-05-24 11:44:14 +0900Updated at: 2024-05-02 09:53:18 +0900