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The role of sulfur valency on thermoelectric properties of sulfur ion implanted copper iodide

Peter P. Murmu, John Kennedy, Zihang Liu, Takao Mori.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2022-10-22 03:13:26 +0900更新時刻: 2024-12-08 08:06:39 +0900

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