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The role of sulfur valency on thermoelectric properties of sulfur ion implanted copper iodide

Peter P. Murmu, John Kennedy, Zihang Liu, Takao Mori.
Open Access Elsevier BV (Publisher)

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2022-10-22 03:13:26 +0900更新時刻: 2024-03-31 16:44:04 +0900

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