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著者名Yoshiyuki Yamashita, Hideki Yoshikawa, Toyohiro Chikyow, Keisuke Kobayashi.
タイトルBias-voltage application in a hard x-ray photoelectron spectroscopic study of the interface states at oxide/Si(100) interfaces
掲載誌名Journal of Applied Physics 113 [16] 163707
ISSN: 00218979 10897550
発表年2013
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1063/1.4803491
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