Control of Y2O3-Stabilized ZrO2 Thin Film Orientation by Modified Bias Sputtering.
(新しいバイアススパッタ法によるYSZ薄膜の方位配列の制御.)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2016-05-24 11:34:14 +0900更新時刻: 2024-04-01 22:55:17 +0900