Proposal of New Precursors for Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of SiOCH Low-<i>k</i>Films with Plasma Damage Resistance | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Proposal of New Precursors for Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of SiOCH Low-kFilms with Plasma Damage Resistance
(プラズマダメージ耐性を有するSiOCH low-k膜のプラズマ化学蒸着のための新規プリカーサの提案)

Yoshi Ohashi, Nobuo Tajima, Yonghua Xu, Takeshi Kada, Shuji Nagano, Hideharu Shimizu, Satoshi Hasaka.

Japanese Journal of Applied Physics 49 [5] 05FF03. 2010.

https://doi.org/10.1143/jjap.49.05ff03

NIMS著者

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作成時刻: 2016-05-24 16:24:59 +0900 更新時刻: 2025-04-20 04:55:35 +0900

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