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Proposal of New Precursors for Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of SiOCH Low-kFilms with Plasma Damage Resistance
(プラズマダメージ耐性を有するSiOCH low-k膜のプラズマ化学蒸着のための新規プリカーサの提案)

Yoshi Ohashi, Nobuo Tajima, Yonghua Xu, Takeshi Kada, Shuji Nagano, Hideharu Shimizu, Satoshi Hasaka.
Japanese Journal of Applied Physics 49 [5] 05FF03. 2010.
https://doi.org/10.1143/jjap.49.05ff03

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      作成時刻: 2016-05-24 16:24:59 +0900更新時刻: 2024-04-02 04:59:20 +0900

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