Si酸化超薄膜の超高真空高温場における還元分解/再析出過程 ~NC-AFM/STM/AESによるin situ解析~
(High temperature in situ NC-AFM, STM and AES observations of decomposition and precipitation process of ultrathin SiO2 films on Si(111) Substrates in Ultrahigh Vacuum)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 17:55:45 +0900 更新時刻: 2026-11-01 04:32:23 +0900