Patterning challenges in advanced device architectures: FinFETs to nanowires
N. Horiguchi, A. P. Milenin, Z. Tao, H. Hubert, E. Altamirano-Sanchez, A. Veloso, L. Witters, N. Waldron, L.-Å. Ragnarsson, M. S. Kim, Y. Kikuchi, H. Mertens, P. Raghavan, D. Piumi, N. Collaert, K. Barla, A. V. Thean.
