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4K高Q値運転可能な超伝導加速空洞のための電気メッキ法によるNb3Sn成膜
(Nb3Sn FORMATION USING ELECTROPLATING METHOD FOR 4K HIGH-Q OPERABLE SRF CAVITY)

井藤 隼人, 菊池 章弘, 早野 仁司, 本多 史憲, 柏木 茂, 文珠四郎 秀昭,

NIMS著者


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    作成時刻: 2020-11-26 03:00:19 +0900更新時刻: 2020-11-26 03:00:19 +0900

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