NF3とSI基盤の相互作用：密度凡関数法にようる検討
(DFT STUDY ON THE INTERACHONS BETWEEN NF3 AND SI-SUBSTRATE.)
電子情報通信学会 シリコン材料デバイス研究会. 1998年08月20日-1998年08月21日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:23:20 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:50:37 +0900