XPSによるアルミナ/NiAl(110)上でのPd極薄膜の成長と熱的安定性の研究
(Study of the growth and thermal stability of palladium ultra thin film on alumina/NiAl(110) by X-ray photoelectron spectroscopy)
第50回応用物理学関係連合講演会. 2003年03月27日-2003年03月30日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 03:09:38 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:39:51 +0900