ステンシルマスクを用いた結晶石英基板へのイオンビームナノパターンニング
(Ion-beam nanopatterning of crystalline SiO2 substrate using stencil masks)
2008年 春季第55回応用物理学関係連合講演会. 2008.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-01-08 04:56:46 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:07:39 +0900