FIB加工によるNiシリサイド薄膜のミクロ組織変化のTEMその場観察
(In-Situ TEM Observation of Structural Changes of Ni Silicide Thin Films by FIB Lithography)
第５回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム(BEAMS1994). 1994年11月21日-1994年11月22日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 00:54:31 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:31:06 +0900