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ＲＦ／ＤＣイオンプレーティング法による窒化チタン膜の特性
(Properties of Ion-Plated Titanium Nitride Films Prepared by RF/DC Plasma Method)
金属表面技術協会. 1984-03-30.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-01-08 04:02:06 +0900 Updated at: 2017-07-10 17:02:40 +0900