格子歪制御によるSi(100)基板上Ge量子ドットのナノスケール構造設計
(Nanoscale architect of Ge island on Si(100) through strain-engineering)
The International Conference on Superlattices, Nano-structures a. 2002年07月22日-2002年07月26日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 02:37:49 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:25:26 +0900