HOME > 口頭発表 > 書誌詳細種々基板上へのエピタキシャルbeta-FeSi2薄膜の合成と評価(Growth of epitaxial beta-FeSi2 thin films on various substrates and their characterization)木村武, 秋山賢輔, 渡辺隆之, 高橋健治, 大屋誠志郎, 大橋 直樹, 斉藤啓介, 舟窪浩. 第50回応用物理学関係連合講演会. 2003年03月27日-2003年03月31日.NIMS著者大橋 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-18 03:07:42 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:39:06 +0900