高分解能電子線リソグラフィのための非晶質炭素被覆基板
(Amorphous-C-coated Substrates for High-Resolution EBI Lithography)
第１９回日本応用磁気学会. 1995年09月23日-1995年09月26日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:30:14 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:33:00 +0900