The Effect of FIB Lithography on the Formation of Ni Silicide thin Films by in-situ TEM
(収束イオンビーム加工のNiシリサイド薄膜形成に及ぼす影響のTEMその場観察)
13th International Vacuum Congress. 1995年09月25日-1995年09月29日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 01:00:07 +0900 更新時刻: 2023-04-09 15:02:13 +0900