シリコン基板表面の酸化薄膜の原子配列：量子化学的検討
(Atomic configurations in oxide films on silicon substrate)
日本表面科学会. 1997年12月02日-1997年12月04日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 01:21:47 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:45:17 +0900