集束イオンビームを用いた半導体薄膜の電顕内微細加工とその場観察
(Microfabrication and in-situ Observation of Semiconductors by TEM Using FIB)
電子顕微鏡学会：電子顕微鏡とニューマイクロスコープの基礎研究部会. 1995年10月26日-1995年10月27日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:01:58 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:34:24 +0900