電子顕微鏡内イオンビーム微細加工法によるSi,GaAsの組織変化の直接観察.
(Direct Obsevation of Si, and Ga As Struvtures by using IN-Situ Lithography in TEM.)
日本金属学会. 1993年03月31日-1993年04月02日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-01-08 04:08:52 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:21:40 +0900