液滴エピタキシィ法によりWetting Layer膜厚を制御したGaAs量子ドットの作製
(Fabrication of GaAs Quantum Dots with and without Wetting Layer by Droplet Epitaxy)
第二十回電子材料シンポジウム. 2001年06月20日-2001年06月22日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 02:17:07 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:15:01 +0900