極薄SiO2膜絶縁破壊過程における電流揺らぎ
(Fluctuation of Current during the break down of thins Sio2 film)
極薄膜シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」第7回研究会. 2002. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 03:05:03 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:39:42 +0900