HCD型PVD法によるTi-TiN系及びCr-CrN系蒸着膜の形成.
(A Ti-TiN System and a Cr-CrN System of Thinn Films by a HCD Type of PVD Method.)
日本金属学会. 1988年03月31日-1988年04月02日.
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作成時刻: 2017-01-08 04:49:44 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:06:52 +0900