Oxidation of Silicon in rf Plasma Measured by a Rapid in-situ During-Process Ellipsometry.
(高周波プラズマ中のシリコンの酸化過程の高速その場偏光解析.)
第１２回国際真空会議及び第８回国際固体表面会議. 1992年10月12日-1992年10月16日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:01:39 +0900 更新時刻: 2023-04-09 14:55:26 +0900