液滴エピタキシィ法によりWetting Layer膜厚を制御したGaAs量子ドットの作製
(Fabrication of GaAs Quantum Dots with and without Wetting Layer by Droplet Epitaxy)
第10回インテリジェント材料シンポジウム. 2001-03-15.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 02:12:27 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:12:42 +0900