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反応性イオンエッチングにおける導電材料Cu及びAuの微細加工
(Fabrications of microstructures of conducting materials Cu or Au by a reactive-ion etching  )

中谷 功, 木倉宏成, 木倉宏成.
日本応用磁気学会第25回学術講演会 . 2001年09月25日-2001年07月28日.

NIMS著者


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      作成時刻: 2017-02-18 02:24:41 +0900 更新時刻: 2023-04-09 15:22:06 +0900

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