シリコン表面でのO2反応性散乱で生成したSiOの内部状態分布
(Internal State Distributions of SiO Prodused by Reactive Scattering of O2 With Si Surface)
9th International Conference on Solid Surfaces. 1995年09月25日-1995年09月29日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:42:00 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:33:54 +0900