シリサイド薄膜の相対スパッタエッチングレート比のエネルギー依存性
(The measurements of relative sputter etching rate for silicide thin film.)
第42回 真空に関する連合講演会. 2001年10月17日-2001年10月19日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:09:29 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:09:29 +0900