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NH3アニールを用いたLL-D&A法により形成したHfAlON膜中の窒素分布と結合状態への影響
(Nitrogen profile and incorporation in HfAlO film fabricated by LL-D&A method using NH3 annealing)
第64回応用物理学会学術講演会. August 30, 2003-September 02, 2003.
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Created at: 2017-02-14 11:14:10 +0900 Updated at: 2017-07-10 18:47:49 +0900