HOME > 口頭発表 > 書誌詳細面内 X 線回折による酸化グラフェンの二次元構造解析(In-plane XRD analysis on two-dimensional structure of graphene oxide)谷口 貴章, ヌルディワィジャヤント レアンダス, 坂井 伸行, 佐々木 高義, 畠山 一翔, 津川 樹, 伊田 進太郎. 日本セラミックス協会第36回秋季シンポジウム. 2023年09月06日-2023年09月08日.NIMS著者谷口 貴章坂井 伸行佐々木 高義Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2023-11-28 03:08:56 +0900更新時刻: 2023-11-28 03:08:56 +0900