HOME > 口頭発表 > 書誌詳細CVD法による高品質beta-FeSi2薄膜(beta-FeSi2 thin film prepared by CVD method)秋山賢輔, 大屋誠志郎, 熊谷正夫, 大橋直樹, 木村武, 舟窪浩, 秋山賢輔, 大屋誠志郎, 熊谷正夫, 大橋直樹, 木村武, 舟窪浩. 第1回シリサイド系半導体研究会. 2001-11-06.NIMS著者大橋 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:26:34 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:20:11 +0900