シリコン酸化膜における応力特性の計算化学的検討
(Computational chemistry on surbace stressen in the silicon oxide films)
第１９回表面科学講演大会. 1999年12月02日-1999年12月03日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:18:43 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:01:32 +0900