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Band alignments at native oxide/BaSi2 and amorphous-Si/BaSi2 interfaces measured by hard x-ray photoelectron spectroscopy

R. Takabe, H. Takeuchi, W. Du, K. Ito, K. Toko, 上田 茂典, 木村昭夫, 末益崇.
43rd IEEE PVSC. 2016年06月05日-2016年06月10日.

NIMS著者


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    作成時刻: 2017-02-14 11:22:07 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:20:46 +0900

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