HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ALD法によるアンドープおよびGaドープ ZnO薄膜の成長平塚祐也, 小俣温, 斉藤幸喜, 牧野久雄, 岸本誠一, 山本哲也, 張 保平, 長田 実. 2005年（平成17年）秋季 第66回応用物理学会学術講演会. 2005.NIMS著者長田 実Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:35:41 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:26:12 +0900
