Structural property of amorphous thin Ta2O5 films deposited by different methods and its impact on their resistive switching characteristics
第28回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議. 2015.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:42:25 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:13:43 +0900