シリコン超薄酸化膜成長中の応力測定
(Stress measurements during the ultrathin oxide growth on silicon)
4th International Symposium on Atomically Controlled Surfaces an. 1997年10月27日-1997年10月30日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 01:21:51 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:45:19 +0900