銅上CVDグラフェンにおけるTa誘起局所核生成のメカニズム
(The mechanism of Ta-induced localized nucleation of CVD graphene on Cu)
| 著者 | 鈴木 誠也, 原 正則, 吉村 雅満. |
|---|---|
| 会議名 | 2019年 第66回応用物理学会春季学術講演会 |
| 発表年 | 2019 |
| 言語 | Japanese |
| 著者 | 鈴木 誠也, 原 正則, 吉村 雅満. |
|---|---|
| 会議名 | 2019年 第66回応用物理学会春季学術講演会 |
| 発表年 | 2019 |
| 言語 | Japanese |