HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Patterned Ion Implantation to Insulators by Using Stencil Masks of Si Thin Film and Porous Alumina(Si薄膜及び多孔質アルミナのステンシルマスクを用いた絶縁体へのパターンイオン注入)KISHIMOTO, Naoki. IUMRS Int. Conf. in Asia 2008, IUMRS-ICA2008. 2008年12月09日-2008年12月13日.NIMS著者岸本 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 12:06:39 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:06:39 +0900