HOME > 口頭発表 > 書誌詳細磁場プロセスによる垂直配向性メソポーラスシリカ薄膜の合成(Perpendicular alignment of mesochannels in mesoporous silica films under a strong magnetic field)山内 悠輔, 目 義雄, 廣田 憲之. 第2回日本磁気科学会年次大会. 2007.NIMS著者山内 悠輔目 義雄廣田 憲之Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 11:24:43 +0900 更新時刻 :2017-07-10 19:55:49 +0900