パルス高電圧に伴うグロー放電を利用したプラズマイオン注入による炭素膜の作製
(Deposition of carbon films by plasma based ion implantation using glow discharge due to high pulse voltage)
第16回イオン注入表層処理シンポジウム. 2000-11-24.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:04:21 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:04:21 +0900