NH3を用いたLL-D&A法により作製したHfAlOx(N)膜中の窒素の結合状態と電気特性
(Influence of nitrogen bonds on electrical properties of HfAlOx(N) films fabricated through LL-D&A process using NH3)
第9回「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」. 2004年01月23日-2004年01月24日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:48:01 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:53:46 +0900